Fast and slow dynamic NBTI components in p-MOSFET with SiON dielectric and their impact on device life-time and circuit application
10.1109/.2005.1469225
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Yang, T., Li, M.F., Shen, C., Ang, C.H., Zhu, C., Yeo, Y.C., Samudra, G., Rustagi, S.C., Yu, M.B., Kwong, D.L. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/83730 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | National University of Singapore |
مواد مشابهة
-
Fast DNBTI components in p-MOSFET with SiON dielectric
بواسطة: Yang, T., وآخرون
منشور في: (2014) -
Characterization and physical origin of fast vth Transient in NBTI of pMOSFETs with SiON dielectric
بواسطة: Shen, C., وآخرون
منشور في: (2014) -
Interface trap passivation effect in NBTI measurement for p-MOSFET with SiON gate dielectric
بواسطة: Yang, T., وآخرون
منشور في: (2014) -
The physical origins of fast and slow components in NBTI degradation for p-MOS transistors with SiON gate dielectric
بواسطة: Li, M.-F., وآخرون
منشور في: (2014) -
Issues and controversies in NBTI degradation and recovery mechanisms for p-MOSFETs with SiON gate dielectrics
بواسطة: Li, M.-F., وآخرون
منشور في: (2014)