Self-rectifying and forming-free unipolar HfO x based-high performance RRAM built by fab-avaialbe materials
10.1109/IEDM.2011.6131648
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Tran, X.A., Gao, B., Kang, J.F., Wu, X., Wu, L., Fang, Z., Wang, Z.R., Pey, K.L., Yeo, Y.C., Du, A.Y., Liu, M., Nguyen, B.Y., Li, M.F., Yu, H.Y. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/84169 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
A self-rectifying HfO x-based unipolar RRAM with Nisi electrode
بواسطة: Tran, X.A., وآخرون
منشور في: (2014) -
A self-rectifying HfOx-based unipolar RRAM with NiSi electrode
بواسطة: Tran, Xuan Anh, وآخرون
منشور في: (2013) -
Self-selection unipolar HfOx-Based RRAM
بواسطة: Tran, X.A., وآخرون
منشور في: (2014) -
High performance unipolar AlOy/HfOx/Ni based RRAM compatible with Si diodes for 3D application
بواسطة: Tran, X.A., وآخرون
منشور في: (2014) -
A self-rectifying and forming-free HfOx based-high performance unipolar RRAM
بواسطة: Yu, Hongyu, وآخرون
منشور في: (2013)